江苏先科取得用于深紫外光刻胶树脂沉降提纯的反应釜专利有效解决DUV光刻胶树脂放大过程中残留溶剂多的问题
发布时间:2026-01-26 02:18:42

  国家知识产权局信息显示,江苏先科半导体新材料有限公司取得一项名为“一种用于深紫外光刻胶树脂沉降提纯的反应釜”的专利,授权公告号CN 223615865 U,申请日期为2024年12月。

  专利摘要显示,本实用新型公开了一种用于深紫外(DUV)光刻胶树脂沉降提纯的反应釜,属于光刻胶技术领域,其包括第一夹套釜、第二夹套釜和第三夹套釜;所述第一夹套釜、第二夹套釜和第三夹套釜依次串联连接。现有技术DUV光刻胶树脂多为固体出料,残留溶剂及残留未反应物较多,严重影响后续光刻胶性能、稳定性及批次间稳定性,并且其过滤困难降低生产效率。本实用新型能够有效解决DUV光刻胶树脂放大过程中出现的残留溶剂多、残留未反应物多、合成排气导致环境污染量大、过滤困难等问题。

  天眼查资料显示,江苏先科半导体新材料有限公司,成立于2016年,位于无锡市,是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本102693.1686万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏先科半导体新材料有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目28次,专利信息46条,此外企业还拥有行政许可414个。

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